大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于刻蚀涂布机的问题，于是小编就整理了4个相关介绍刻蚀涂布机的解答，让我们一起看看吧。
氟化钾如何刻蚀玻璃？
使用氟化钾作为蚀刻剂方法，则是将待刻的玻璃，洗净晾干平置，于其上涂布用汽油溶化的石蜡液作为保护层，于固化后的石蜡层上雕刻出所需要的文字或图案。
雕刻时，必须雕透石蜡层，使玻璃露出。然后，将氟化钾溶液滴于露出玻璃的文字或图案上。
根据所需花纹的深浅，控制腐蚀时间经过一定时间之后，用温水洗去石蜡和氟化钾，即可制得具有美丽花纹的玻璃。本蚀刻玻璃用以氟化钾为有效成分的蚀刻剂蚀刻而成，蚀刻过程不需保护层，污染少，操作易。
suss光刻机什么品牌？
类别：激光刻蚀机
品牌：德国SUSS MicroTec/SUSS MicroTec
产地：欧洲 德国
SUSS MicroTec SE成立于1949年，总部位于慕尼黑北部大学城Garching，是一家生产和销售微系统技术和微电子领域产品的公司。产品主要有光掩模系统、涂布机、面具对齐器、投影扫描仪、激光进步器、晶圆粘合剂等，产品广泛应用于电子、半导体、教学、科研、产品设计等领域。
反锐化掩模法的原理？
掩模就是一种模具。一般用来制作电路或者微流沟道。将所需线路印在胶片之类的东西上，就是一个简单的掩模，然后在要刻蚀线路的基底上涂布光刻胶，用掩模盖在上面曝光，线路就转移到涂胶的基底上了，未被掩模上不透明部分覆盖的地方就曝光了，可以用特定试剂腐蚀除去，基底上就形成了所需线路或沟道。
光伏切片流程？
您好，光伏切片流程一般包括以下步骤：
2.光阻涂覆：在硅片表面涂覆一层光阻，以便进行后续的刻蚀工艺。
3.曝光：将光阻涂层暴露在紫外线下，使其在硅片表面形成图案。
4.刻蚀：用化学液体对硅片表面进行刻蚀，使得光阻涂层和硅片表面的非图案部分被去除。
5.清洗：用化学液体将硅片表面的残留物清洗干净。
6.烧结：将硅片放入高温炉中，进行烧结处理，使得硅片表面形成p-n结。
具体的制造工艺技术说明如下：
（1）切片：***用多线切割，将硅棒切割成正方形的硅片。
（2）清洗：用常规的硅片清洗方法清洗，然后用酸（或碱）溶液将硅片表面切割损伤层除去30－50um。
（3）制备绒面：用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。
（4）磷扩散：***用涂布源（或液态源，或固态氮化磷片状源）进行扩散，制成pN＋结，结深一般为0.3－0.5um。
到此，以上就是小编对于刻蚀涂布机的问题就介绍到这了，希望介绍关于刻蚀涂布机的4点解答对大家有用。
